Le contrôleur de découpe plasma comprend principalement les composants suivants :
Source d'énergie haute- : utilisée pour générer un champ électrique-haute fréquence ;
Réseau d'adaptation : utilisé pour ajuster la distribution du champ électrique à haute -fréquence dans la chambre à plasma ;
Chambre à plasma : utilisée pour ioniser les molécules de gaz et générer du plasma ;
Système de vide : Assure le niveau de vide et la stabilité de la chambre à plasma ;
Système de contrôle : utilisé pour contrôler les paramètres du plasma et obtenir un contrôle stable des propriétés électriques du plasma.
